全國首臺國產商業電子束光刻機面世！精度0.6nm比肩國際主流
2025-08-14 19:54來源：快科技編輯：時寒峰
原標題：全國首臺國產商業電子束光刻機面世！精度0.6nm比肩國際主流
8月14日消息，據報道，近日全國首臺國產商業化電子束光刻機在杭州正式亮相，這臺設備由浙江大學余杭量子研究院自主研發，型號為“羲之”，已完成研發并進入應用測試階段。
“羲之”是一款新一代100kV電子束光刻機，外觀酷似大型鋼柜，專攻量子芯片、新型半導體研發的核心環節。
可通過高能電子束在硅基上“手寫”電路，精度可達0.6納米、線寬僅8納米，精度比肩國際主流設備，并且無需掩模版，可多次修改設計。
據介紹，與傳統光刻機相比，電子束光刻機在原型設計、快速迭代和小批量試制方面具有獨特優勢。
團隊負責人表示：“芯片研發初期會設計很多版型、圖案，常常需要一條線一條線進行修改，電子束光刻機精度高、‘書寫’便捷，極大提升了芯片研發初期反復調試的效率。”
此前先進電子束光刻機類設備受國際出口管制，國內頂尖科研機構和企業長期無法采購，而“羲之”的落地徹底打破了這一困局，目前已與國內企業及多家科研機構展開接洽。
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