原標題：EUV光刻膠助力光刻材料行業(yè)收入增長，2025年預計達50.6億美元

　　近期，半導體市場迎來復蘇跡象，這一趨勢對光刻材料行業(yè)產(chǎn)生了積極影響。根據(jù)知名研究機構(gòu)TECHCET的最新報告，預計到2025年，光刻材料市場將實現(xiàn)顯著增長，總收入預計攀升至50.6億美元（按當前匯率計算，約合366.46億元人民幣），相較于當前水平，增幅達到7%。

　　報告指出，光刻膠需求的激增是推動這一增長的主要因素。特別是EUV（極紫外光刻）光刻膠，其需求預計將同比增長30%，展現(xiàn)出強勁的市場潛力。這一增長背后的邏輯在于，隨著芯片產(chǎn)量的不斷提升，特別是在邏輯芯片和DRAM芯片領域，先進節(jié)點器件的產(chǎn)量增加，對高質(zhì)量光刻膠的需求也隨之上升。

　　TECHCET的數(shù)據(jù)還顯示，2024年光刻材料市場已經(jīng)實現(xiàn)了1.6%的增長，總收入達到47.4億美元（約合343.28億元人民幣）。在這一年中，EUV光刻膠的表現(xiàn)尤為亮眼，同比增長高達20%。同時，輔助材料和擴展材料市場也表現(xiàn)出穩(wěn)健的增長態(tài)勢，分別實現(xiàn)了2%的增長。

　　光刻材料市場的這一增長趨勢，不僅反映了半導體行業(yè)的整體復蘇，也揭示了技術(shù)創(chuàng)新對材料需求的推動作用。隨著芯片制造技術(shù)的不斷進步，對光刻材料的要求也越來越高。EUV光刻技術(shù)的廣泛應用，就是其中的一個重要例證。這一技術(shù)需要更精細、更穩(wěn)定的光刻膠來支持，從而推動了光刻膠市場的快速發(fā)展。

　　報告還提到，未來光刻材料市場的發(fā)展將受到供應鏈本地化趨勢的影響。為了應對全球貿(mào)易環(huán)境的變化和技術(shù)創(chuàng)新的需求，多個主要市場都在積極建設新的光刻材料生產(chǎn)設施。這些設施將致力于開發(fā)干法光刻膠沉積和納米壓印光刻等創(chuàng)新技術(shù)，以進一步提升光刻材料的性能和降低成本。